Change in Haloacetic Acid Formation Potential during UV and UV/H2O2 Treatment of Model Organic Compounds
Change in Haloacetic Acid Formation Potential during UV and UV/H2O2 Treatment of Model Organic Compounds
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模型有机化合物在 UV 和 UV/H2O2 处理过程中卤乙酸形成电位的变化
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Simon Parsons
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroshi Sakai;Olivier Autin;Simon Parsons
