HF/H2O2を用いたPdアシスト化学エッチングによるシリコンナノ構造物質の作製と評価
HF/H2O2を用いたPdアシスト化学エッチングによるシリコンナノ構造物質の作製と評価
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HF/H2O2 钯辅助化学刻蚀硅纳米结构材料的制备与评价
DOI:
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发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
松井祐介,安達定雄
中科院分区:
文献类型:
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作者:
T. Nakamura;T. Moriyama;N. Nabatova-Gabain;and S. Adachi;袁 澤,中村俊博,安達定雄,橋本修一;松井祐介,安達定雄
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影响因子:
120.7
作者:
Petrie, Mark C.;Verma, Subodh;McMurray, John J. V.
通讯作者:
McMurray, John J. V.
DOI:
10.1001/jama.2019.22087
发表时间:
2020
期刊:
JAMA
影响因子:
--
作者:
A. Slomski
通讯作者:
A. Slomski
DOI:
10.3386/w18918
发表时间:
2013
期刊:
Kauffman: Large Research Projects - NBER (Topic)
影响因子:
--
作者:
E. Berndt;I. Cockburn
通讯作者:
I. Cockburn
影响因子:
37.8
作者:
M. Kosiborod;P. Jhund;K. Docherty;M. Diez;M. Petrie;S. Verma;J. Nicolau;B. Merkely;M. Kitakaze;D. DeMets;S. Inzucchi;L. Køber;F. Martinez;P. Ponikowski;M. Sabatine;S. Solomon;O. Bengtsson;D. Lindholm;A. Niklasson;M. Sjöstrand;A. Langkilde;J. McMurray
通讯作者:
J. McMurray
影响因子:
37.8
作者:
Nassif, Michael E.;Windsor, Sheryl L.;Cox, John M.
通讯作者:
Cox, John M.