Bi2SiO5エピタキシャル薄膜の結晶成長に関する検討
Bi2SiO5エピタキシャル薄膜の結晶成長に関する検討
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Bi2SiO5外延薄膜晶体生长研究
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小寺正徳・清水荘雄・舟窪浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kudo Momonari;Harashita Shushi;小寺正徳・清水荘雄・舟窪浩
