Growth of homogeneous polycrystalline Sil-xGex and Mg2Si1-xGex for thermoelectric application

Growth of homogeneous polycrystalline Sil-xGex and Mg2Si1-xGex for thermoelectric application
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用于热电应用的均质多晶 Sil-xGex 和 Mg2Si1-xGex 的生长

DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
Thin Solid Films
影响因子：
2.1
通讯作者：
Y.Hayakawa
Y.Hayakawa
中科院分区：
材料科学3区
文献类型：
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作者：
橋本吉晃,大田昌樹,佐藤善之,猪股宏;M.Arivanandhan;大津　雅亮;Y.Hayakawa

文献摘要

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