Tadahiro Ohmi and Tadashi Shibata: "Ultra Clean Technology Its Impact on High Integrity Ultra-Thin Gate Oxide Formation" SEMICON/korea Technical Symposium 93. 195-202 (1993)
Tadahiro Ohmi and Tadashi Shibata: "Ultra Clean Technology Its Impact on High Integrity Ultra-Thin Gate Oxide Formation" SEMICON/korea Technical Symposium 93. 195-202 (1993)
复制标题
Tadahiro Ohmi 和 Tadashi Shibata：“超清洁技术对高完整性超薄栅极氧化物形成的影响”SEMICON/韩国技术研讨会 93. 195-202 (1993)
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
