水素プラズマ処理による多結晶シリコン中に取り込まれた水素の状態について
水素プラズマ処理による多結晶シリコン中に取り込まれた水素の状態について
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关于通过氢等离子体处理进入多晶硅中的氢的状态
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
水田紘平
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Yamada;S. Sadewasser;Y. Sugimoto;O. Custance and S. Morita;水田紘平
