Si nanocrystals formation in SiO2 on Si by Si ion implantation: The effects of RTA, excimer-UV and e-beam irradiation.
Si nanocrystals formation in SiO2 on Si by Si ion implantation: The effects of RTA, excimer-UV and e-beam irradiation.
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通过硅离子注入在硅上的 SiO2 中形成硅纳米晶体：RTA、准分子紫外和电子束辐射的影响。
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.S. Iwayama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Lim;YM;Yamasaki;Y.;Tsuda L.;T.S.Iwayama;Tsuda L.;T.S. Iwayama
