光電子分光法によるHfO_2/SiONx/Ge(100)スタック構造め熱的安定性評価
光電子分光法によるHfO_2/SiONx/Ge(100)スタック構造め熱的安定性評価
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光电子能谱评价HfO_2/SiONx/Ge(100)叠层结构的热稳定性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大田 晃生
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R;Yougauchi;K. Makihara;大田 晃生;門島 勝;三浦 真嗣;奥山 一樹;大田 晃生
