Formation of Cobalt Nanodots Embedded in Silicon Oxide for Nonvolatile Memory Application
Formation of Cobalt Nanodots Embedded in Silicon Oxide for Nonvolatile Memory Application
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用于非易失性存储器应用的嵌入氧化硅中的钴纳米点的形成
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Mitsumasa Koyanagi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yanli Pei;Tatsuro Hiraki;Toshiya Kojima;Takafumi Fukushima;Tetsu Tanaka;Mitsumasa Koyanagi
