A.M.Wrobel et al.: "Remote microwave plasma chemical vapor deposition of thin Si:N:C films from a single-source precursor"J. Wide Bandgap Materials. 8. 3-15 (2001)
A.M.Wrobel et al.: "Remote microwave plasma chemical vapor deposition of thin Si:N:C films from a single-source precursor"J. Wide Bandgap Materials. 8. 3-15 (2001)
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A.M.Wrobel 等人：“来自单源前驱体的 Si:N:C 薄膜的远程微波等离子体化学气相沉积”J.
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