Thermal etching of binary and ternary III–V compounds under vacuum conditions
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DOI：
10.1016/0022-0248(96)00040-1
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发表时间：
1996-09
影响因子：
1.8
通讯作者：
A. N. Alexeev;S. Karpov;M. Maiorov;V. E. Myachin;Yu.V. Pogorelsky;I. Sokolov
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. N. Alexeev;S. Karpov;M. Maiorov;V. E. Myachin;Yu.V. Pogorelsky;I. Sokolov
