C.H.Shon, T.Makabe: "Numerical Modeling of a capacitively coupled plasma for low-k material etching-comparison of Plasma structure between H_2 and N_2"Proc.of the 20th symp.on Plasma Processing. 119-120 (2003)
C.H.Shon, T.Makabe: "Numerical Modeling of a capacitively coupled plasma for low-k material etching-comparison of Plasma structure between H_2 and N_2"Proc.of the 20th symp.on Plasma Processing. 119-120 (2003)
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C.H.Shon、T.Makabe：“用于低 k 材料蚀刻的电容耦合等离子体的数值模拟 - H_2 和 N_2 之间的等离子体结构比较”第 20 届等离子体处理研讨会的会议记录。
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