全反射高速陽電子回折（TRHEPD）によるSi(111) 7×7 再構成表面の構造解析
全反射高速陽電子回折（TRHEPD）によるSi(111) 7×7 再構成表面の構造解析
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全反射高速正电子衍射（TRHEPD）对 Si(111) 7×7 重构表面的结构分析
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
望月出海，花田 貴，兵頭俊夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Susumu Yamamoto;望月出海，花田 貴，兵頭俊夫
