高温環境下におけるSiNx/SiCyナノ積層薄膜の自己き裂治癒挙動
高温環境下におけるSiNx/SiCyナノ積層薄膜の自己き裂治癒挙動
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SiNx/SiCy纳米层压薄膜高温环境下自裂纹愈合行为
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中谷正憲，西村淳樹，花木聡，内田仁
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中谷匡志;X.W. Lei;土井祐介;中谷彰宏;中谷彰宏;日本機械学会;中谷正憲，西村淳樹，花木聡，内田仁
