K.Shobatake,H.Ohashi,K.Fukui,A.Hiraga,N.Hayasaka,H.Okano,H.KUmo: "Synchrotron rasiationーexcited etching of Si02 with SF6 at 143 and 25iA using undulator rasiation" Appl.Phys.Lett.56. 2189-2191 (1991)
K.Shobatake,H.Ohashi,K.Fukui,A.Hiraga,N.Hayasaka,H.Okano,H.KUmo: "Synchrotron rasiationーexcited etching of Si02 with SF6 at 143 and 25iA using undulator rasiation" Appl.Phys.Lett.56. 2189-2191 (1991)
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K.Shobatake、H.Ohashi、K.Fukui、A.Hiraga、N.Hayasaka、H.Okano、H.KUmo：“同步加速器辐射 — 使用波荡器辐射在 143 和 25iA 下用 SF6 激发 SiO2 蚀刻”Appl.Phys。快报56。2189-2191（1991）
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