Arイオン注入法を用いた圧縮歪み/緩和Si1-xCxヘテロ構造の作製
Arイオン注入法を用いた圧縮歪み/緩和Si1-xCxヘテロ構造の作製
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Ar离子注入法制备压缩应变/松弛Si1-xCx异质结
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宇佐美 徳隆
中科院分区：
文献类型：
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作者：
有澤 洋;星 裕介;藤原 幸亮;山中 淳二;有元 圭介;中川 清和;澤野 憲太郎;宇佐美 徳隆
