N.I.Cho, M.C.Kim, K.H.Rim, H.J.Chang, K.Y.Jun, Y.Shimogaki: "Deposition of Copper Thin Films on Titanium Nitride Layer Prepared by Flow Modulation CVD Technology"Material Science Forum. 449-452. 457-460 (2004)
N.I.Cho, M.C.Kim, K.H.Rim, H.J.Chang, K.Y.Jun, Y.Shimogaki: "Deposition of Copper Thin Films on Titanium Nitride Layer Prepared by Flow Modulation CVD Technology"Material Science Forum. 449-452. 457-460 (2004)
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N.I.Cho、M.C.Kim、K.H.Rim、H.J.Chang、K.Y.Jun、Y.Shimogaki：“通过流动调制CVD技术制备的氮化钛层上沉积铜薄膜”材料科学论坛。
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