Control of pattern capacity in nanoimprint mold by adding 2D/2.5D patterns to obtain uniform residual layer
Control of pattern capacity in nanoimprint mold by adding 2D/2.5D patterns to obtain uniform residual layer
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通过添加 2D/2.5D 图案来控制纳米压印模具中的图案容量以获得均匀的残留层
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiroshima Hiroshi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Youn Sung-Won;Suzuki Kenta;Hiroshima Hiroshi
