ヌル磁場放電プラズマにおける新しいスパッタ装置の開発

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新型零磁场放电等离子体溅射设备的研制

DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
宮崎大学工学部紀要 33
影响因子:
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通讯作者:
大坪 昌久
大坪 昌久
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
敦田 悟;J.H.Yang;川尻 晋平;成 烈文;本田 親久;大坪 昌久

文献摘要

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