希ガス混合Si薄膜における酸素の低減化
希ガス混合Si薄膜における酸素の低減化
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稀有气体混合硅薄膜中的氧还原
DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
奥村竜二,羽渕仁恵,飯田民夫,大橋史隆,伴 隆幸,久米徹二,野々村修一
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Kazunari Shinbo;Hiroshi Ishikawa;Akira Baba;Yasuo Ohdaira;Keizo Kato;and Futao Kaneko;奥村竜二,羽渕仁恵,飯田民夫,大橋史隆,伴 隆幸,久米徹二,野々村修一