Nanometer-scale scanning sensors fabricated using stencil lithography
Nanometer-scale scanning sensors fabricated using stencil lithography
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使用模板光刻技术制造的纳米级扫描传感器
DOI：
10.1063/1.1554483
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
D. Ralph
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Champagne;A. Couture;F. Kuemmeth;D. Ralph
我们描述了一种灵活的技术，用于制造用于高分辨率扫描传感器和功能探针的10纳米级器件。金属结构通过在模板掩模中制造的纳米级孔蒸发直接沉积在原子力显微镜尖端上。我们报告了该技术的光刻能力，并讨论了一个初始应用的进展，以制造高空间分辨率的磁力传感器。
We describe a flexible technique for fabricating 10-nm-scale devices for use as high-resolution scanning sensors and functional probes. Metallic structures are deposited directly onto atomic force microscope tips by evaporation through nanoscale holes fabricated in a stencil mask. We report on the lithographic capabilities of the technique and discuss progress in one initial application, to make high-spatial-resolution magnetic force sensors.