深紫外近接場分光法の開発と高分子材料の構造解析への応用

深紫外近接場分光法の開発と高分子材料の構造解析への応用
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深紫外近场光谱技术发展及其在高分子材料结构分析中的应用

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
高分子加工 54
影响因子:
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通讯作者:
青木 裕之
青木 裕之
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
M.Wahadoszamen;T.Nakabayashi;N.Ohta;青木 裕之

文献摘要

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