Nobuki Mutsukura and Kazuhiko Saitoh: "Temperature dependence of a-C : H film deposition in a CH4 rf plasma" Journal Vacuum Science & Technology. (to be published).
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Nobuki Mutsukura 和 Kazuhiko Saitoh：“a-C 的温度依赖性：CH4 射频等离子体中的 H 膜沉积”真空科学杂志
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