Tagawa M., et al.: ""Formation of thin oxide films on room-temperature silicon (100) by exposure to a neutral beam of hyper-thermal atomic and molecular oxygen"" Jpn.J.Appl.Phys.Vol.37 No.12. L1455-L1457 (1998)
Tagawa M., et al.: ""Formation of thin oxide films on room-temperature silicon (100) by exposure to a neutral beam of hyper-thermal atomic and molecular oxygen"" Jpn.J.Appl.Phys.Vol.37 No.12. L1455-L1457 (1998)
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Takawa M. 等人：“通过暴露于超热原子和分子氧的中性束，在室温硅 (100) 上形成薄氧化膜”Jpn.J.Appl.Phys.Vol.37
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