スパッタリング法によるＧｅ添加ZnO薄膜の作製
スパッタリング法によるＧｅ添加ZnO薄膜の作製
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溅射法制备Ge掺杂ZnO薄膜
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
阿部世嗣
中科院分区：
文献类型：
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作者：
荒木 航;田邉 匡生;阿部 世嗣;小山 裕;阿部世嗣;Seishi Abe;Seishi Abe;Seishi Abe;阿部世嗣
