Correction masks for thickness uniformity in large-area thin films
Correction masks for thickness uniformity in large-area thin films
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DOI：
10.1364/ao.39.001602
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发表时间：
2000-04-01
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
Regalado, LE
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Villa, F;Martínez, A;Regalado, LE
在设计校正膜片时，考虑了来自蒸汽源发射的实验结果，以实现在不同几何构型的大面积衬底支架上安装的薄膜在蒸发过程中的均匀厚度分布。(C) 2000美国光学学会。
Experimental results from the emission of vapor sources are considered in designing correcting diaphragms to achieve a uniform thickness distribution during evaporation of thin films mounted on large-area substrate holders, in different geometric configurations. (C) 2000 Optical Society of America.