M. Noda, K. Kodama, S. Kitai, M. Takahashi, T. Kanashima, and M. Okuyama: "Basic characteristics of metal-ferroelectric-insulator-semiconductor structure using a high-k PrO_x insulator layer"Journal of Applied Phsics. 93(7). 4137-4143 (2003)
M. Noda, K. Kodama, S. Kitai, M. Takahashi, T. Kanashima, and M. Okuyama: "Basic characteristics of metal-ferroelectric-insulator-semiconductor structure using a high-k PrO_x insulator layer"Journal of Applied Phsics. 93(7). 4137-4143 (2003)
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M. Noda、K. Kodama、S. Kitai、M. Takahashi、T. Kanashima 和 M. Okuyama：“使用高 k PrO_x 绝缘体层的金属-铁电体-绝缘体-半导体结构的基本特性”应用物理学杂志
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