The effect of deposition temperature on microstructure and properties of thermal CVD TiN coatings
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DOI：
10.1016/j.ijrmhm.2007.01.010
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发表时间：
2008-03
影响因子：
3.6
通讯作者：
J. Wagner;C. Mitterer;M. Penoy;C. Michotte;Wilfried Wallgram;M. Kathrein
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Wagner;C. Mitterer;M. Penoy;C. Michotte;Wilfried Wallgram;M. Kathrein
