Plasma processing for VLSI
Plasma processing for VLSI
复制标题
VLSI 等离子处理
DOI：
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发表时间：
1984
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Dale M. Brown
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N. G. Einspruch;Dale M. Brown
