用AFM研究硅基上沉积铜膜生长过

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DOI:
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发表时间:
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期刊:
真空与低温.11(3).159-161,2005.09
影响因子:
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通讯作者:
何山虎
何山虎
中科院分区:
其他
文献类型:
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作者:
包良满;曹博;李公平*;何山虎

文献摘要

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