N. Itagaki et al.: "Production of Low Electron Temperature ECR Plasma for Plasma Processing"Thin Solid Films. 390. 202-207 (2001)
N. Itagaki et al.: "Production of Low Electron Temperature ECR Plasma for Plasma Processing"Thin Solid Films. 390. 202-207 (2001)
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N. Itagaki 等人：“用于等离子体处理的低电子温度 ECR 等离子体的生产”固体薄膜。
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