Three dimensional on 300mm wafer scale nano imprint lithography processes
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复制标题
300mm 晶圆级三维纳米压印光刻工艺
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
C. Vizioz
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Landis;V. Reboud;T. Enot;C. Vizioz
