六方晶窒化ホウ素上での高結晶性グラフェンナノリボン大量合成
六方晶窒化ホウ素上での高結晶性グラフェンナノリボン大量合成
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六方氮化硼上高结晶石墨烯纳米带的大规模合成
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
斉木 幸一朗
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小幡 誠司;谷口 尚;渡邊 賢司;斉木 幸一朗
