Development of ICP-Enhanced Reactive Sputtering System with Multiple Low-Inductance Antenna Modules for Large-Area Deposition of Silicon Films
Development of ICP-Enhanced Reactive Sputtering System with Multiple Low-Inductance Antenna Modules for Large-Area Deposition of Silicon Films
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开发具有多个低电感天线模块的ICP增强反应溅射系统，用于大面积沉积硅膜
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akinori Ebe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuichi Setsuhara;Kosuke Takenaka;Akinori Ebe
