光照射によるシリカ膜の低温製膜と浸透気化・逆浸透への応用
光照射によるシリカ膜の低温製膜と浸透気化・逆浸透への応用
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光照射低温形成二氧化硅膜及其在渗透蒸发和反渗透中的应用
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
西林舞,長澤寛規,金指正言,吉岡朋久,都留稔了
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Mai Nishibayashi;Hiroyuki Yoshida;Masamoto Uenishi;Masakoto Kanezashi;Hiroki Nagasawa;Tomohisa Yoshioka and Toshinori Tsuru;西林舞,長澤寛規,金指正言,吉岡朋久,都留稔了;西林舞,長澤寛規,金指正言,吉岡朋久,都留稔了
