Zirconia thin film deposition on silicon by reactive gas flow sputtering: the influence of low energy particle bombardment
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反应气流溅射在硅上沉积氧化锆薄膜：低能粒子轰击的影响
DOI：
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发表时间：
1991
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Westphal
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Jung;A. Westphal
