Electromigration in stressed thin films.
Electromigration in stressed thin films.
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DOI：
10.1103/physrevb.45.1409
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发表时间：
1992-01
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tu
多层薄膜电路中的机械应力可以增强或延迟电迁移。使用不可逆过程的热力学分析了这种相互作用，并将结果应用于短带电迁移实验
Mechanical stress in multilayered thin film circuits can enhance or retard electromigration. This interaction has been analyzed using thermodynamics of irreversible processes and the result applied to short-stripe electromigration experiments