自然酸化膜付Si基板上へのモノメチルシランを用いたSiC薄膜高速成長(II)
自然酸化膜付Si基板上へのモノメチルシランを用いたSiC薄膜高速成長(II)
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使用单甲基硅烷在自然氧化膜的 Si 衬底上快速生长 SiC 薄膜（II）
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山田晋平，成田 克，中島健介，内藤正路，末光眞希
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山田晋平，成田 克，中島健介，内藤正路，末光眞希
