反応性HiPIMS法による酸素空孔安定化ジルコニア薄膜の形成
反応性HiPIMS法による酸素空孔安定化ジルコニア薄膜の形成
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反应性HiPIMS法形成氧空位稳定氧化锆薄膜
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
楊 明，清水 徹英
中科院分区：
文献类型：
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作者：
齋藤 直人，Adriano Panepinto;Stephanos Konstantinidis;楊 明，清水 徹英
