Masashi Ishii: "Capacitance x-ray absorption fine structure method using dopant photoionization : x-ray absorption spectroscopy of 〜nm thickness channel in semiconductor device"Japanese Journal of Applied Physics. 40・12. 7129-7134 (2001)
Masashi Ishii: "Capacitance x-ray absorption fine structure method using dopant photoionization : x-ray absorption spectroscopy of 〜nm thickness channel in semiconductor device"Japanese Journal of Applied Physics. 40・12. 7129-7134 (2001)
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Masashi Ishii：“使用掺杂剂光电离的电容X射线吸收精细结构方法：半导体器件中~nm厚度通道的X射线吸收光谱”日本应用物理学杂志40・12（2001）。
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