Directly Probing Molecular Ordering at the Buried Polymer/Metal Interface 2: Using P-Polarized Input Beams
Directly Probing Molecular Ordering at the Buried Polymer/Metal Interface 2: Using P-Polarized Input Beams
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直接探测埋藏聚合物/金属界面处的分子有序性 2：使用 P 偏振输入光束
DOI：
10.1021/ma301088g
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发表时间：
2012-07
期刊：
影响因子：
5.5
通讯作者：
Chen, Zhan
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Han, Xiaofeng;Hankett, Jeanne;Li, Dawei;Chen, Zhan
以前，我们开发了几种方法来使用和频产生(SFG)振动光谱来原位探测埋藏的聚合物/金属界面，方法是在金属表面沉积不同厚度的聚合物薄膜，或者将聚合物薄膜夹在金属表面和熔融石英窗口之间。在这项研究中，我们开发了一种新的、更简单的方法来直接探测聚合物/金属界面，方法是以聚甲基丙烯酸乙酯(PEMA)/银(Ag)界面为例收集PPP SFG光谱。我们证实，对于金属上的聚合物薄膜，主要的SFG信号来自空气中的聚合物表面和/或聚合物金属界面，而来自聚合物本体的贡献可以忽略不计。以前，我们发现SSP光谱是由聚合物/空气和聚合物/金属界面共同贡献的。在这里，我们证明了SFG PPP谱是由来自埋藏的聚合物/金属界面的信号主导的，来自埋藏的聚合物/金属界面的结构信息是关于埋藏的聚合物/金属界面的结构信息。
Previously, we developed several methods to use sum frequency generation (SFG) vibrational spectroscopy to probe buried polymer/metal interfaces in situ by depositing polymer films with different thicknesses on metal surfaces or sandwiching a polymer thin film between a metal surface and a fused silica window. In this study, we developed a new and easier method to directly probe the polymer/metal interface by collecting ppp SFG spectra using a poly(ethyl methacrylate) (PEMA)/silver (Ag) interface as an example. We confirmed that for a thin polymer film on metal, the dominant SFG signals were contributed from the polymer surface in air and/or the polymer metal interface, while the contribution from the polymer bulk could be ignored. Previously, we showed that the ssp spectra were contributed by both the polymer/air and polymer/metal interfaces. Here we demonstrated that the SFG ppp spectra were dominated by signals from the buried polymer/metal interface from which the structural information on the buried ...
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DOI：
10.1063/1.3482733
发表时间：
2010-10
期刊：
The Journal of chemical physics
影响因子：
--
作者：
X. Tong;A. Armentano;M. Riese;M. Benyezzar;S. Pimblott;K. Müller-Dethlefs;S. Ishiuchi;M. Sakai;Akihiro Takeda;M. Fujii;O. Dopfer
通讯作者：
X. Tong;A. Armentano;M. Riese;M. Benyezzar;S. Pimblott;K. Müller-Dethlefs;S. Ishiuchi;M. Sakai;Akihiro Takeda;M. Fujii;O. Dopfer
影响因子：
5.5
作者：
Xiaolin Lu;Dawei Li;Cornelius B Kristalyn;Jianglong Han;N. Shephard;S. Rhodes;G. Xue;Zhan Chen
通讯作者：
Xiaolin Lu;Dawei Li;Cornelius B Kristalyn;Jianglong Han;N. Shephard;S. Rhodes;G. Xue;Zhan Chen
影响因子：
3.3
作者：
X. Wei;S. Hong;A. Lvovsky;H. Held;Y. Shen
通讯作者：
X. Wei;S. Hong;A. Lvovsky;H. Held;Y. Shen
影响因子：
2.9
作者：
FELLER, MB;CHEN, W;SHEN, YR
通讯作者：
SHEN, YR
影响因子：
5.5
作者：
Kurian, Anish;Prasad, Shishir;Dhinojwala, Ali
通讯作者：
Dhinojwala, Ali