極薄Si酸化膜を用いたエピタキシャルGaSb薄膜のSi基板上への形成
極薄Si酸化膜を用いたエピタキシャルGaSb薄膜のSi基板上への形成
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利用超薄硅氧化膜在硅衬底上形成外延GaSb薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
市川昌和
中科院分区：
文献类型：
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作者：
金井龍一;杉本智洋;中村芳明;市川昌和
