H. Ito, H. Saitohら: "Mechanism of nitrogen incorporation into amorphous-CNx films formed by plasma-enhanced chemical-vapor-deposition of the doublet and quartet states of the CN radical"Japanese Journal of Applied Physics. 39(3). (2000)
H. Ito, H. Saitohら: "Mechanism of nitrogen incorporation into amorphous-CNx films formed by plasma-enhanced chemical-vapor-deposition of the doublet and quartet states of the CN radical"Japanese Journal of Applied Physics. 39(3). (2000)
复制标题
H. Ito, H. Saitoh 等人：“通过等离子体增强化学气相沉积 CN 自由基的双重态和四重态形成的非晶 CNx 薄膜中氮的结合机制”，《日本应用物理学杂志》39（ 3) (2000)
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
