Photolithography-free fabrication of photoresist-mold for rapid prototyping of microfluidic PDMS devices
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DOI：
10.1016/j.cclet.2021.07.045
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yang Yunhuang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ou Gaozhi;Qin Shanshan;Wang Biao;Li Zheyu;Hu Rui;Li Ying;Yang Yunhuang
