Surface orientation dependence of plasma-induced ion bombardment damage in Si substrate
Surface orientation dependence of plasma-induced ion bombardment damage in Si substrate
复制标题
硅衬底中等离子体诱导离子轰击损伤的表面取向依赖性
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Ono
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Okada;K. Eriguchi;K. Ono
