超平整、低损耗表面等离激元贵金属薄膜的制备、表征与应用
超平整、低损耗表面等离激元贵金属薄膜的制备、表征与应用
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DOI：
10.1360/sspma-2019-0153
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
雷党愿
中科院分区：
文献类型：
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作者：
徐运坤;罗子荣;张磊;雷党愿
由于对电磁场巨大的局域化共振增强和调控作用, 表面等离激元自发现之初就成为微纳光学领域的研究热点之一, 在很多纳米尺度器件应用方面颇具潜力. 然而, 长期以来表面等离激元的实际应用受到样品制备技术的显著限制, 超平整、低损耗贵金属薄膜的低成本制备技术的缺乏不仅阻碍了其实验研究的进展, 更限制了表面等离激元材料在多个领域内的应用发展. 随着各项制备和表征技术的发展, 贵金属薄膜的平整度和光学特性逐渐从理论期望走向实际使用, 从随机制备后选取逐步变为精确调控的薄膜生长. 本文从制备、表征和应用三个方面出发, 系统地介绍了当前贵金属超平整表面等离激元薄膜的研究进展与前沿应用.