UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価第3報 ～研磨速度に対するポリシャの効果～
UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価第3報 ～研磨速度に対するポリシャの効果～
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使用直接紫外线照射辅助的 GaN 衬底抛光评估第三次报告 ~抛光机对抛光速率的影响 ~
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
金枝知季 松井伸介，山本栄一，矢島利康 二宮大輔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shinsuke MATSUI ;Kouta HIROSHIMA ;and Atsunobu UNE;金枝知季 松井伸介，山本栄一，矢島利康 二宮大輔
