Activation and pumping characteristics of Ti–Zr–V films deposited on narrow tubes
Activation and pumping characteristics of Ti–Zr–V films deposited on narrow tubes
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窄管上Ti-Zr-V薄膜的活化和泵浦特性
DOI：
10.1007/s41365-021-00880-4
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发表时间：
2021-05
影响因子：
2.8
通讯作者：
Yong Wang
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Bangle Zhu;Xiaoqin Ge;Sihui Wang;Wei Wei;Yigang Wang;Gongfa Liu;Yong Wang
非蒸发吸气剂 (NEG) 薄膜是许多粒子加速器不可或缺的一部分。这些薄膜提供无电导的均匀分布泵浦、低热脱气率以及低光子和电子刺激解吸。这些特性使其成为解决电导受限的窄真空管中不均匀压力分布的理想解决方案。在这项研究中，三元 Ti-Zr-V 薄膜沉积在 Si 基底和内径为 22 mm 的 Ag-Cu (Ag 0.085 wt%) 管上。所有 Ti-Zr-V 薄膜都是使用相同的直流磁控溅射参数从合金靶材制备的。在不同温度下活化后，通过X射线光电子能谱分析其组成和相应的化学键态。测试粒子蒙特卡罗（TPMC）方法用于根据注气期间的压力读数来测量Ti-Zr-V薄膜的粘附概率。结果表明，在低至 150 °C 的温度下就开始活化，并且在 180 °C 退火 1 h 后，表面存在 Ti0、Zr0 和 V0。 Ti-Zr-V薄膜可在180℃下24小时完全活化。 CO 粘附概率达到 0.15，泵送能力为 1 个单分子层。
Non-evaporable getter (NEG) films are an integral part of many particle accelerators. These films provide conductance-free evenly distributed pumping, a low thermal outgassing rate, and a low photon-and electron-stimulated desorption. These characteristics make it an ideal solution for resolving the non-uniform pressure distribution in conductance-limited narrow vacuum tubes. In this study, ternary Ti–Zr–V films were deposited on Si substrates and Ag–Cu (Ag 0.085 wt%) tubes with an inner diameter of 22 mm. All Ti–Zr–V films were prepared from an alloy target using the same DC magnetron sputtering parameters. The compositions and corresponding chemical bonding states were analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy after activation at different temperatures. The test particle Monte Carlo (TPMC) method was used to measure the sticking probability of the Ti–Zr–V film based on pressure readings during gas injection. The results indicate that activation commences at temperatures as low as 150 °C and Ti0, Zr0, and V0exist on the surface after annealing at 180 °C for 1 h. Ti–Zr–V films can be fully activated at 180 °C for 24 h. The CO sticking probability reaches 0.15, with a pumping capacity of 1 monolayer.
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影响因子：
4
作者：
O. Malyshev;M. Cox
通讯作者：
O. Malyshev;M. Cox
影响因子：
2.8
作者：
Zhen-Biao Sun;L. Shang;F. Shang;Yungai Tang;Wei Liu;W. Song
通讯作者：
Zhen-Biao Sun;L. Shang;F. Shang;Yungai Tang;Wei Liu;W. Song
影响因子：
4
作者：
J. Jiménez
通讯作者：
J. Jiménez
DOI：
--
发表时间：
1998
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
C. Benvenuti
通讯作者：
C. Benvenuti
DOI：
10.1016/j.elspec.2017.05.009
发表时间：
2017-07
影响因子：
1.9
作者：
Ittipon Fongkaew;R. Akrobetu;A. Sehirlioglu;A. Voevodin;S. Limpijumnong;W. Lambrecht
通讯作者：
Ittipon Fongkaew;R. Akrobetu;A. Sehirlioglu;A. Voevodin;S. Limpijumnong;W. Lambrecht