K.Horiuchi, K.Nakada, S.Uchino, S.Hashii, A.Hashimoto, N.Aoki, Y.Ochiai, M.Shimizu: "Passivation effects of alumina insulating layer on G_<60> thin-film field-effect transistors"Applied Physics Letters. 81. 1911 (2002)
K.Horiuchi, K.Nakada, S.Uchino, S.Hashii, A.Hashimoto, N.Aoki, Y.Ochiai, M.Shimizu: "Passivation effects of alumina insulating layer on G_<60> thin-film field-effect transistors"Applied Physics Letters. 81. 1911 (2002)
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K.Horiuchi、K.Nakada、S.Uchino、S.Hashii、A.Hashimoto、N.Aoki、Y.Ochiai、M.Shimizu：“氧化铝绝缘层对 G_<60> 薄膜场效应的钝化效应
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