Stress evaluation in thin films: Micro-focus synchrotron X-ray diffraction combined with focused ion beam patterning for do evaluation

Stress evaluation in thin films: Micro-focus synchrotron X-ray diffraction combined with focused ion beam patterning for do evaluation
复制标题

薄膜应力评估:微焦同步加速器 X 射线衍射与聚焦离子束图案相结合进行评估

DOI:
10.1016/j.tsf.2013.07.019
复制
发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
2.1
通讯作者:
Baimpas N
Baimpas N
中科院分区:
材料科学3区
文献类型:
--
作者:
Baimpas N

文献摘要

相似文献